技術(shù)文章
Technical articles問：在使用中為什么有些金屬鍍不上？答：直流磁控濺射儀器針對不同金屬需要調(diào)整不同的參數(shù)，靶材厚度、本底真空度、氬氣環(huán)境、電流大小、磁場強(qiáng)弱都對鍍膜起著決定性的作用。比較容易鍍的金屬銅、銀、金等，日常鍍膜不容易鍍的金屬鉻、鎳、鋁、鈦等問：為什么剛開始使用時可以鍍上，用過一段時間就不太好鍍了？答：可能存在磁場減弱，導(dǎo)致磁場無法穿透有些靶材。形成原因可能是在鍍膜時候忘記打開水冷機(jī)，高溫導(dǎo)致靶頭字長減弱，磁場很難穿透厚的樣品，難以起輝。建議在選擇靶材的時候可以選擇薄一些的靶材，且在設(shè)備...
氣體配比器是一種用于精確控制多種氣體混合比例的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測、工業(yè)生產(chǎn)、醫(yī)療呼吸、科研實(shí)驗(yàn)等領(lǐng)域。其核心功能是通過調(diào)節(jié)不同氣體通道的流量或壓力，實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)濃度比例的穩(wěn)定輸出。然而，長期使用或環(huán)境變化可能導(dǎo)致配比精度下降，因此校準(zhǔn)成為保障其性能的核心環(huán)節(jié)。本文將從校準(zhǔn)原理、流程設(shè)計(jì)、關(guān)鍵技術(shù)及注意事項(xiàng)等方面，系統(tǒng)闡述氣體配比器的校準(zhǔn)方式。一、校準(zhǔn)的基本原理與目標(biāo)氣體配比器的校準(zhǔn)本質(zhì)是通過對比設(shè)備輸出值與標(biāo)準(zhǔn)參考值，修正系統(tǒng)誤差的過程。其核心目標(biāo)是確保以下參數(shù)的準(zhǔn)確性...
高低溫真空循環(huán)老化的薄片器件，核心是厚度極小（從微米到毫米級）、形態(tài)扁平的電子與光電類器件，主要用于模擬太空、半導(dǎo)體制造、高1端裝備等極1端環(huán)境，通過加速老化暴露熱應(yīng)力、真空出氣、界面脫層等隱患，驗(yàn)證長期可靠性。半導(dǎo)體芯片/裸片：處理器、FPGA、存儲芯片、傳感器裸片，核心薄片器件分類及用途1、半導(dǎo)體芯片與裸片這類薄片器件是各類電子系統(tǒng)的核心，包括處理器、FPGA、存儲芯片及各類傳感器裸片，主要用于航天、軍1工、汽車電子等高可靠領(lǐng)域。在高低溫真空循環(huán)老化中，重點(diǎn)驗(yàn)證其在極1端...
等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體制造、微電子加工及科研領(lǐng)域中用于去除光刻膠、表面清洗和改性的關(guān)鍵設(shè)備。為確保其高效穩(wěn)定運(yùn)行，延長使用壽命，需采取科學(xué)合理的保養(yǎng)措施。以下從多個方面詳細(xì)闡述等離子去膠機(jī)的保養(yǎng)方式：一、日常清潔維護(hù)每次使用后，應(yīng)及時清理設(shè)備表面的灰塵和雜質(zhì)，防止其進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部影響性能。可使用無塵布或吸塵器清除氣路和電路周圍的雜物。定期對腔體進(jìn)行深度清潔，去除內(nèi)部積累的污垢和殘留物。可采用機(jī)械擦拭結(jié)合溶劑清洗的方式，但要注意避免使用腐蝕性強(qiáng)的溶劑，以免損壞腔體材質(zhì)。對于頑固污漬...
1、濕敏傳感器如何在不同壓力或濕度的情況下精準(zhǔn)控制器件的電阻、電容？首先，測試濕度傳感器需要用到氣體加濕設(shè)備，濕度控制器是通過質(zhì)量流量計(jì)控制氣體流量計(jì)，混合飽和蒸汽壓和干空氣，精確控制5-95%RH濕度，來精準(zhǔn)測試器件在不同濕度環(huán)境下的電信號。加濕氣體出來后通入到真空探針臺內(nèi)，內(nèi)置傳感器器件，探針接觸傳感器的PAD或者電極上，外接電信號測試設(shè)備。傳感器在接觸濕度氣體后，電阻/電容的電學(xué)信號會因?yàn)椴煌臐穸犬a(chǎn)生變化。再通過電信號測試設(shè)備顯示出實(shí)時數(shù)據(jù)。2、如果要控制腔體內(nèi)水分子...
小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)基于等離子體的性質(zhì)展開工作。等離子體被稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是由大量帶電粒子組成的電中性體系。其具體工作流程如下：1.產(chǎn)生等離子體環(huán)境：在設(shè)備內(nèi)部，通過特定的氣體放電過程產(chǎn)生等離子體環(huán)境。通常選擇氧氣、氬氣或者氟化物氣體等合適的工藝氣體，這些氣體在高頻電場的作用下電離，形成等離子體。2.活性粒子與光刻膠反應(yīng)：當(dāng)帶有光刻膠的晶圓、玻璃基板或其他工件被送入設(shè)備的腔室時，等離子體中的活性粒子就會與光刻膠發(fā)生反應(yīng)。例如，氧等離子體可以通過化學(xué)反應(yīng)將光刻膠分解為二氧化...
1、定期檢查和校準(zhǔn)：首先，定期的檢查和校準(zhǔn)是維護(hù)氣體質(zhì)量流量計(jì)的基礎(chǔ)。一般來說，建議每六個月到一年進(jìn)行一次校準(zhǔn)。當(dāng)然，具體的頻率還要根據(jù)使用環(huán)境和氣體種類來決定。如果你的氣體質(zhì)量流量計(jì)經(jīng)常處于極1端環(huán)境中，比如高溫或高壓，那么就需要更頻繁地進(jìn)行校準(zhǔn)和檢查。2、清潔至關(guān)重要：在清潔時，務(wù)必要使用推薦的清潔劑和工具，避免使用腐蝕性強(qiáng)的物質(zhì)。通常情況下，用柔軟的布和適當(dāng)?shù)那鍧崉┹p輕擦拭表面就能達(dá)到不錯的效果。此外，確保流量計(jì)的測量管道沒有任何阻塞，保持通暢也至關(guān)重要。3、監(jiān)測運(yùn)行狀...
以下是關(guān)于蒸發(fā)鍍膜儀校準(zhǔn)方式的詳細(xì)指南，涵蓋校準(zhǔn)原理、關(guān)鍵參數(shù)、操作流程及常見問題解決方案：一、蒸發(fā)鍍膜儀概述與校準(zhǔn)意義蒸發(fā)鍍膜儀通過物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，在真空環(huán)境下將材料(金屬/化合物)加熱蒸發(fā)后凝結(jié)于基材表面形成薄膜。其核心組件包括真空腔體、蒸發(fā)源(電阻/電子束)、膜厚監(jiān)測儀、溫控系統(tǒng)等。校準(zhǔn)目的：確保膜層厚度均勻性(≤±3%)、成分純度(雜質(zhì)二、校準(zhǔn)前準(zhǔn)備工作1.環(huán)境條件確認(rèn)-潔凈度：操作間需達(dá)到萬級潔凈標(biāo)準(zhǔn)，避免微粒污染。-溫濕度：溫度20&pl...
當(dāng)前位置：
