直流磁控濺射儀濺射方式是調動靶材內磁場，使金屬離子轟擊到樣品表面的鍍膜方式。目前只能支持金屬靶材。已經測試過的靶材有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁、以及部分合金(鎳鐵合金)。靶材正常是2mm，不帶磁性的話 最多5mm，帶磁性的不要超過2mm，否則會有干擾。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求:

銅：正常顏色為藍綠色，或灰色偏綠。

鋁:鍍鋁推薦使用高真空分子泵。真空時間抽長一些，測試時間60s，電流500，真空度3-5pa，等電壓上升到250以上時，可以調小電流，調小真空，白光鍍不上，正常顏色為紅色。

鉻:靶材厚度 0. 5mm 左右

鎳：靶材厚度2mm，5 建議真空度為2-3pa，建議電流為200-300ma，真空度不能太高   電流不要太大。

鈦：真空度示數要低，功率要高，建議500ma，時間60.正常濺射為綠色，出現白色輝光時  電壓正常，但是鍍不上，需要注意。

常見問題；1、有電流，沒電壓，是短路。

                   2、電壓直接到1000v，真空度過高，加大氬氣量。

小型蒸鍍儀是通過高溫蒸發的方式鍍膜。支持蒸鍍金屬和有機物。目前已測試的金屬有金、銀、銅、鉻、鎳、鋁，有機物(石蠟)。蒸鍍儀增加膜厚監測需要用到帶有屏蔽溫度的陶瓷坩堝(原因是高溫會影響膜厚儀的測試結果)。以下是對一些特殊金屬鍍膜要求。

鋁:鍍鋁需要用到陶瓷坩堝。是因為鋁高溫熔化時會滲透進鎢舟，發生脆性相，鎢舟容易斷鎳:熔點較高(1453°)，需要用鎳絲纏繞鎢棒進行蒸發。同樣會滲透進鎢棒內，使鎢棒斷

裂

鉻:需要用到鉻鎢棒進行蒸發鍍膜熔點較高(1850 左右°)