等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱為物質(zhì)的第四態(tài)。由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。
1、在經(jīng)過等離子清洗之后，被清洗物體已經(jīng)很干燥，不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
2、不使用有害溶劑，清洗后也不會產(chǎn)生有害污染物，屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。
3、整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成，因此具有效率高的特點(diǎn)。
4、它可以深入到物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，所不用多考慮被清洗物體形狀的影響。
5、在完成清洗去污的同時(shí)，還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等。
6、等離子清洗的技術(shù)特點(diǎn)是，它不分處理對象，可處理不同的基材。無論是金屬、半 導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料都可用等離子體很好地處理。因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。
7、自動化程度高，具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。
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更新時(shí)間：2020-07-06
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